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- 三氟化氮
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描述
三氟化氮在半导体制造和各种其他工业应用中起着关键作用。三氟化氮用于半导体制造中的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）工艺。它有助于清洁和沉积对高性能电子元件至关重要的薄膜。在光刻过程中，三氟化氮作为氟化剂，有助于精确的图案创建，这对微制造和芯片制造至关重要。
技术资料
分子量：71.002
沸点：-129.05在1.013巴[℃]/-200.29在14.5磅/平方英寸[℉]
密度：1.013巴、15℃时为3.015，[千克/立方米]/1大气压时为0.184，70℉，[磅/立方英尺]
在空气中的可燃性范围，[%体积]：不可燃
比容：1.013巴、15℃时为0.332，[m3/kg]/1大气压时为5.43，70℉，[ft3/lb]
应用领域
查看更多 1.三氟化氮用作硅加工中的高速选择性蚀刻剂。它已被用于蚀刻硅、多晶硅、氮化硅和氧化硅以及难熔金属和硅化物。
2.三氟化氮有时被用作HF/DF化学激光器中的氟源。三氟化氮用作氟化剂。三氟化氮也用于纤维处理。
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Now, BEKO TECHNOLOGIES offers a complete program for all tasks related to the processing of compressed air. Expert advice and a qualified service are a trademark of the independent and family-owned company.
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